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在微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）法生长高品质金刚石单晶或多晶薄膜的工艺中，高纯度氢气（H2）不仅是等离子体的激发介质，更是碳源分解、表面重构与缺陷抑制的关键参与者。氢气纯度、流量稳定性与供气安全性直接决定金刚石晶体的质量、生长速率与设备运行安全。金刚石MPCVD美女APP免费视频...
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